東莞市宇鑫金屬蝕刻技術有限公司
Dongguan Yuxin metal etching technology Co., Ltd.

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產(chǎn)品詳情
YX-880堿性鋅鎳合金電鍍工藝-詳細說明請點導航欄(電鍍添加劑產(chǎn)品)
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YX-880堿性鋅鎳合金電鍍工藝-詳細說明請點導航欄(電鍍添加劑產(chǎn)品)

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產(chǎn)品詳情

本產(chǎn)品是一種堿性無氰鋅鎳合金鍍液,可均勻的獲得含12-16%鎳的鋅鎳合金鍍層,耐蝕能力是普通鍍鋅層的3-5倍,符合汽車及其它行業(yè)制造技術的要求。本產(chǎn)品是適用不溶性鎳陽極操作,在寬廣的電流密度范圍內(nèi),具有極佳的金屬分布和恒定的合金組份。

.工藝特點:


n適用于掛鍍與滾鍍;

n具有效高的電流效率,鍍層應力小,適合硬化工件;

n有很好的分散能力和覆蓋能力;

n鈍化著色容易,可進行本色、彩色、藍色、黑色鈍化處理。

. 鍍液開缸量:


產(chǎn)品名稱

開缸量

掛鍍

滾鍍

氧化鋅

10 g/L

10 g/L

氫氧化鈉

120 g/L

130 g/L

YX-880A鎳補充劑

15 mL/L

15 mL/L

YX-880B絡合劑

100 mL/L

100 mL/L

YX-880C光亮劑

4 mL/L

4 mL/L

YX-880D走位劑

2mL/L

2mL/L

.配制方法:


全部設備必須除油清洗,然后應當用適量的氫氧化鈉溶液浸泡24小時,再用水沖洗干凈。

1 .注入三分之一的水于電鍍槽中(內(nèi)襯橡膠的鋼板或聚丙烯材料,不可使用PVC)。

2. 加入定量的氫氧化鈉,攪拌使其溶解。

3 .將所需量的氧化鋅調(diào)成糊狀,趁熱加入氫氧化鈉溶液中,攪拌使其完全溶解。

4 .添加0 .5克/ 升的活性炭攪拌2小時后過濾。

5 .在給定的容器里依次加入定量的鎳補充劑、絡合劑 ,然后將此溶液加入渡槽。

6.加入定量的光亮劑。

7.在1A/dm2電流密度下處理鍍液至1安時/升。

8.加入走位劑。

9.混合均勻試片成功后即可生產(chǎn)。

四.濃度范圍和工作條件:



掛鍍

滾鍍


鋅離子

8-10g/L

9-10 g/L


鎳離子

0.5-1.2 g/L

0.6-1.2 g/L


游離氫氧化鈉

110-140 g/L

110-140 g/L


YX-880B絡合劑

90-120 mL/L

90-120 mL/L


YX-880C光亮劑

3-8 mL/L

3-8 mL/L


YX-880D走位劑

2-4 mL/L

2-4 mL/L


工件移動

工件平行于陽極移動2-4米/分,移動距離大約175px


過濾

每小時循環(huán)鍍液1-2次


鍍槽

內(nèi)襯橡膠的鋼板或聚丙烯材料,不可使用PVC。


溫度

20-35℃

陰極電流密度

0.5-4.5 安培/平方分米

沉積速度

0.3-0.35 微米/分鐘/ 2.5安培/ 平方分米

陽極材料

鎳板或電鍍厚度不少于 20 微米的鍍鎳鐵板


. 補充及維護:


堿性鋅鎳合金

消耗量(千安培小時)

YX-880C光亮劑

60-120 毫升

YX-880B絡合劑

200-400毫升

YX-880A鎳補充劑

900-1500 毫升

YX-880D走位劑

200-600毫升

1.鋅:

鍍液中的鋅濃度可通過在另一副槽里鋅的化學溶解來維持,鋅的濃度高會降低光亮區(qū)的分散能力,因此必須控制鋅含量在給定的范圍內(nèi)。

2.氫氧化鈉:

新鍍液氫氧化鈉濃度應維持在110-140g/L之間,濃度低會造成光亮區(qū)的分散能力不良,可通過在低電流密度去看到暗的鈍化膜來判別。

3.鎳:

鎳的共沉積主要取決于溶液中鎳的濃度,溶液中鎳的濃度高則合金鍍層中的鎳含量也高,當合金中鎳含量大于16%,特別是在高電流密度區(qū)會導致鈍化不良。此時應停止滴加鎳,并按0.2g/L增加鋅濃度來調(diào)整。當合金中鎳含量小于12%,此時可按2mL/L的增量加入鎳補充劑來調(diào)整。HN-860A鎳補充劑中鎳含量為70g/L。

4.碳酸鹽和硫酸鹽:

通過吸收大氣中的二氧化碳,在溶液中會生成碳酸鈉,碳酸鈉的含量必須控制在60g/L以下,當碳酸鈉含量過高時,會是添加劑分解以及電流效率下降。同事鎳補充劑的連續(xù)補充會導致硫酸鈉的濃度增加。因此需要定期的將碳酸鈉與硫酸鈉冷凍出來。溶液應冷卻到3度以下。

5.絡合劑與穩(wěn)定劑:

可改善結(jié)晶結(jié)構和有助于維持均勻的合金組分。添加過多會是鎳含量增多,降低電流效率,因此避免過量添加。


六.故障原因與處理方法:  

  故障種類

  可能原因

  對比標準樣板分析與調(diào)整

鍍層不亮

光亮劑少

鎳離子濃度低

鍍液溫度高

鍍液中含有機雜質(zhì)

適量補充光亮劑

補充鎳離子

在鍍液溫度處于正常范圍內(nèi)

活性炭吸附除去鍍液中有機雜質(zhì)

高電流密度區(qū)有條紋

光亮添加劑少

鎳離子濃度低

鍍液溫度高

絡合劑濃度低

適量補充光亮劑

補充鎳離子

調(diào)整鍍液溫度處于正常范圍內(nèi)

適量補充絡合劑

低電流密度區(qū)變暗

光亮添加劑少

鎳離子濃度低

鍍液溫度高

鍍液中含金屬雜質(zhì)

適量補充光亮添加劑

補充鎳離子

在鍍液溫度處于正常范圍內(nèi),

用低電流密度電解除去鍍液中的金屬雜質(zhì)

鍍件凹處或深孔處無鍍層,鍍液分散能力差

電流密度小

調(diào)整電流密度到工藝范圍

鍍液中絡合劑含量低

補充絡合劑成分

鍍層起泡、脫皮

鍍前處理不良

加強鍍前處理

鈍化溶液成分失調(diào)

檢查鈍化液成分

鍍層鈍化膜差

鍍層中鎳含量高

降低鍍液中鎳含量


蝕刻

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